IP情報

News and Insights

2021年上半期の中国の主な知的財産権統計データ

時間:2021-07-30

分享到:

プリント
中国国家知識産権局弁公室の衡付広副主任は7月14日に行われた定例記者会見で、中国は今年上半期に7629件の集積回路レイアウト設計に登録証を発行しており、それは比較的急成長が続いていると紹介した。

衡副主任は、2021年上半期、中国知的財産権の主要指標は予期した目標を達成し、知的財産権事業は着実に進み、中でも専利、商標、集積回路レイアウト設計の権利付与数が昨年同期より急速に増加したと述べた。

専利については、上半期に中国は33万9000件の発明専利に権利を付与した。2021年6月末現在、中国の発明専利有効数は332万4000件で、うち国内(香港、マカオ、台湾を除く)発明専利有効数は同期比23%増の245万4000件である。また、PCT国際特許出願は12.6%増の3万3300件を受理した。

商標については、上半期の中国商標登録は372万4000件であった。6月末現在、有効登録商標数は同期比22.4%増の3354万8000件である。(人民網から翻訳)